镀氧化铝膜
镀氧化铝膜的方法主要分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD），其中物理气相沉积主要有蒸镀法和磁控溅射法，蒸镀法根据加热方式不同分为电阻加热、高频感应加热和电子束加热三种，其中电阻加热的温度可达1600℃，而电子束和高频感应加热可达3000℃。磁控溅射法相比于蒸镀法，其膜层与基材结合力强、膜层致密性及均匀性好。
影响氧化铝膜性能的因素主要包括基材的选择、蒸镀原材料、基材温度、真空度等。其中，基材温度越高，越有利于形成均匀、致密的镀膜层。塑料薄膜在允许的使用温度范围内，随着温度升高，其热稳定性会降低，如果在高温高张力下的基材表面蒸镀氧化铝薄膜，冷却至环境温度的过程中基材收缩较大，而氧化铝膜的收缩率小，严重时会出现氧化铝膜层和塑料膜层分层、直至脱落。
①不饱和的ALOx与基膜表面游离O形成饱和ALOx，形成对称稳定结构
②ALOx与基膜表面未饱和H形成H—O键，形成致密结构
③非极性的H2O、O2等分子不易与极性的ALOx薄膜吸附，且ΔH<0
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